顺反异构，也被称为几何异构，是立体异构中的一种特定形式。它描述的是化合物分子中由于存在限制自由旋转的因素，如C=C双键、C≡C叁键、C=N双键、C=S双键、N=N双键或脂环等不能自由旋转的官能团，导致各个基团在空间的排列方式不同，进而产生的非对映异构现象。

含有此类异构的有机分子，如烯烃、炔烃、偶氮化合物、脂环烃等，被视作顺反异构体。在命名时，通常会采用“顺反式异构命名法”或“Z-E命名法”来进行。此外，值得注意的是，顺反异构体在物理、化学、生物性质上一般具有明显的区别。

顺反异构体的生成或变化可能由多种化学反应导致，其中最为典型的是烯烃的顺反异构化反应。这是一种有机光化学反应，主要涉及到烯烃分子在光照条件下发生的顺反异构体之间的相互转化。

具体来说，烯烃的顺反异构化反应可以在两种过程下发生：自激发过程和光敏激发过程。自激发过程是有机反应底物直接吸光引发的化学反应，而光敏激发过程则依靠光催化剂/光敏剂吸收可见光，激发态光敏剂进而将反应底物激发或者直接与底物发生反应。

还有一些其他的化学反应也可能导致顺反异构体的生成或变化，但具体的反应机制可能因反应条件和底物结构的不同而有所差异。

顺反异构体的生成或变化不仅仅是一种物理变化，更是一种化学反应。因为顺反异构体是由于分子中特定官能团不能自由旋转而导致的基团在空间的排列方式不同，所以它们之间的转化涉及到化学键的断裂和形成，是一种典型的化学反应。

在合成目标分子时，如何考虑和利用顺反异构的影响？

深入理解顺反异构的性质，包括其结构特征、稳定性、反应活性等。这有助于预测和控制在合成过程中可能发生的顺反异构变化。

根据目标分子的结构和所需的顺反异构体，选择合适的合成路径。在设计合成路径时，需要充分考虑顺反异构体之间的转化和稳定性，以确保合成过程的可行性和目标分子的纯度。

在合成过程中，可以利用顺反异构的选择性反应来得到所需的顺反异构体。例如，通过选择合适的催化剂、反应条件等，可以控制反应的立体选择性，从而得到特定的顺反异构体。

在合成过程中，需要定期监测顺反异构体的生成和变化。可以使用色谱、质谱等分析技术来检测顺反异构体的含量和比例。如果需要得到纯的顺反异构体，还需要使用适当的分离技术，如柱层析、结晶等。

通过优化合成条件，如温度、压力、溶剂、催化剂等，可以进一步控制顺反异构体的生成和变化。这有助于提高合成效率和目标分子的纯度。